Number | Date | Country | Kind |
---|---|---|---|
195 40 053 | Oct 1995 | DE | |
195 40 255 | Oct 1995 | DE |
Number | Name | Date | Kind |
---|---|---|---|
4331526 | Kuehnle | May 1982 | |
4572842 | Dietrich et al. | Feb 1986 | |
4608943 | Doehler et al. | Sep 1986 | |
4920917 | Nakatani et al. | May 1990 | |
4943363 | Zejda et al. | Jul 1990 | |
4981566 | Wurczinger | Jan 1991 | |
5169509 | Latz et al. | Dec 1992 | |
5340454 | Schaefer et al. | Aug 1994 | |
5415757 | Szcyrbowski et al. | May 1995 | |
5718815 | Szczyrbowski et al. | Feb 1998 | |
5888305 | Szczyrbowski et al. | Mar 1999 |
Number | Date | Country |
---|---|---|
3300097 | Aug 1983 | DE |
3802582 | Aug 1989 | DE |
4106770 | Sep 1992 | DE |
4204999 | Aug 1993 | DE |
252205 | Dec 1993 | DE |
4237517 | May 1994 | DE |
4239843 | Jun 1994 | DE |
4324683 | Nov 1994 | DE |
4326100 | Feb 1995 | DE |
0502242 | Sep 1992 | EP |
0510401 | Oct 1992 | EP |
0544107 | Jun 1993 | EP |
0647961 | Apr 1995 | EP |
1601244 | Oct 1981 | GB |
Entry |
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Schiller et al., Hochrate-Sputtertechnik und deren Einsatz in -verschiedenen Industriezweigen, Vakuum-Technik, 37. Jg. H. Jun./1988 S. 162-175. |
Schiller et al., Verfahren und Einsatzmöglichkeiten des -Plasmatron-Hochratezerst{umlaut over (a)}ubens f{umlaut over (u)}r Beschichtungsaufgaben der Elektronik, Vakuum-Technik, 30. Jg., H. 7, S. 195-207. |
Kienel et al., Moderne Beschichtungstechnologien von Architektur-glas, Vakuum-Technik, 30. Jg., H. 8, S. 236-245. |